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    先进制造学部冯峰论文在欧洲应用超导大会预印本竞赛中获好评

    发布时间:2015.11.26

    近日,先进制造学部讲师冯峰在法国里昂举办的2015年欧洲应用超导大会(EUCAS2015)以通讯作者身份投稿的论文“一种制备超导涂层导体的双轴织构氧化镁过渡层的方法”(Xiao S Z, Feng F*, et al, A Method to Fabricate Biaxially Textured MgO Buffer Layer for HTS Coated Conductor.),在预印本论文竞赛(Contest for Best Contributed Preprints)中获得较高评价(Runners up),被选中发布在电气与电子工程师协会超导委员会(IEEE CSC)和欧洲应用超导学会(ESAS)联合主办的国际超导新闻论坛(Superconductivity News Forum, Global Edition)。本届欧洲应用超导大会共有1137人参会,投稿论文约430篇,参赛论文34篇,最终获得好评(winner与runners up)发布在国际超导新闻论坛的论文共15篇,冯峰的论文是唯一一篇来自中国的入选论文。

    该论文提出了一种可以用于超导导线过渡层加工的新方法,使用射频磁控溅射中的反溅射效应使氧化镁薄膜出现双轴织构。在传统的磁控溅射技术当中,反溅射效应由于会导致薄膜的刻蚀问题,一般被认为是有害的一种实验现象。但是该研究利用反溅射粒子束流的轰击效应,达到了控制调整氧化镁薄膜形核取向的效果。该工作对于磁控溅射这一常见的真空镀膜技术进行了有益的创新,对真空镀膜理论和装备制造的发展具有积极的意义。

    这一研究的前期工作“磁控溅射沉积超导涂层导体氧化镁过渡层中的反溅射效应”(Xiao S Z, Feng F*, et al, Resputtering effect during MgO buffer layer deposition by magnetron sputtering for superconducting coated conductors. Journal of Vacuum Science & Technology A, 2015, 33(4): 041504.)今年5月份已经发表在了美国真空学会(AVS)主办的《真空科学与技术期刊》(影响因子为2.322,期刊引文报告(Journal Citation Reports)涂层薄膜材料科学类一区)。本次参赛的论文在同行评议之后将发表在《电气与电子工程师协会应用超导学报》(IEEE Transactions on Applied Superconductivity,影响因子1.235)。

     

    (a)磁控溅射装置基本结构,(b)反溅射效应示意图。

    链接地址:http://snf.ieeecsc.org/issue-35-january-2016-preview-number-1