性能指标及功能：系统极限真空、溅射室，系统经烘烤，可达8×10-6Pa；永磁靶直径Φ50㎜， 直流电源一台；样品可自转，一次可镀一片；样品可加热300℃；采用计算机控制镀膜系统； 二路质量流量计控制进气；流量0～100SCCM；系统配有水冷循环系统及水压报警系统。

主要特点：配合各种靶材，可以镀制各种金属膜，厚度从20nm-20um。