近日，清华大学深圳国际研究生院孙波团队通过高温高压法合成了具有超高导热性能的金属六方氮化钽（θ-TaN）单晶，突破金属材料长期存在的热导率上限，为先进热管理材料的研发开辟了新路径。

氮化钽单晶导热

集成电路的发展长期受限于金属材料的散热性能，该团队制备的θ-TaN单晶在室温下展现出高达502 W m⁻¹ K⁻¹的热导率。研究显示，即便样品中存在氮空位，其测得的导热性能仍超越所有传统金属导体。材料的高热导率主要源于其较大的声学–光学声子能隙有效抑制了三声子散射，同时费米能级附近较低的电子态密度显著削弱了声子-电子散射。此研究在金属材料超高热导率的探索中迈出了重要一步。

此工作为新一代高性能热管理材料的研发奠定了重要科学基础。研究进一步指出，优化晶体质量、减少空位浓度，有望进一步提升其热导性能，这为材料性能的持续优化指明了清晰路径。此外，本研究合成的θ-TaN不仅具备优异的热导率，同时兼具高氧化温度和高热稳定性等特性，展现出其在先进热管理应用中的综合优势。这一成果为设计突破传统性能极限的金属导体提供了全新指导。

相关成果以“高导热金属氮化钽单晶”（High thermal conductivity in metallic θ-TaN single crystals）为题，发表在《国家科学评论》（National Science Review）上。

论文第一作者为清华大学深圳国际研究生院2025届博士毕业生刘一哲，共同第一作者是南方科技大学周雪峰博士和宁波东方理工大学2024级博士生庞桂健，通讯作者为清华深圳国际研究生院孙波副教授、宁波东方理工大学李武副教授和南方科技大学王善民副教授。

文章链接：https://doi.org/10.1093/nsr/nwag106

文：侯新富

编辑：叶思佳

审核：林洲璐